光譜學(xué)是一種測量紫外、可見、近紅外和紅外波段光強的技術(shù)。光譜測量廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域,如顏色測量、化學(xué)成分濃度測量或輻射分析、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域。光纖光譜儀的基本配置包括光柵、狹縫和檢測器。光譜儀的性能取決于這些組件的組合和校準。校準后的光纖光譜儀,原則上這些配件不能有任何變化。低雜散光光譜儀是生命科學(xué)、醫(yī)療診斷、半導(dǎo)體與光伏產(chǎn)業(yè)、食品與農(nóng)業(yè)、地理與礦物學(xué)、制藥業(yè)、環(huán)境科學(xué)、司法鑒定等領(lǐng)域的理想檢測工具。
低雜散光光譜儀采用非交叉光路設(shè)計,大大提高了紫外響應(yīng),減少了雜散光的影響,是一種高靈敏度的面陣探測器,是理想的高性能光譜測量產(chǎn)品。由于更寬的線性工作范圍,它特別適用于透射和吸光度檢測。超低雜散光和高靈敏度的結(jié)合也使顏色測量更快。
光譜儀包含光學(xué)平臺,大大減少雜散光,提高機械和溫度穩(wěn)定性。這種新型光學(xué)平臺內(nèi)置雙模消除器和多級復(fù)合拋物面鏡,雜散光降低至0.04%,是標準光譜儀的2.5倍。除了顯著改善雜散光外,這種新型光學(xué)平臺還將光譜儀的機械強度提高了10倍以上,使其對機械變形和溫度變化的敏感度降低。
低雜散光光譜儀可大大減少雜散光,提高機械和溫度穩(wěn)定性。這種新型光學(xué)平臺具有兩個光闌和多個光阱,可以將雜散光抑制到0.04%,是普通光譜儀的2.5倍。新的光學(xué)平臺在改善雜散光的同時,機械剛性也大大提高,微彎和溫漂對光譜儀的影響降低了10倍。特別適用于需要測量高吸光度的應(yīng)用,如高化學(xué)濃度、高光密度光學(xué)元件和長光程測量。這種新型光學(xué)平臺和光譜儀適用于OEM應(yīng)用和單臺儀器應(yīng)用。