高分辨率光譜儀采用高分辨率光學(xué)平臺，適用于需要精細(xì)光譜分辨率的場合，為激光表征、氣體吸收測量和等離子體分析提供高質(zhì)量的光譜測量。大焦距光學(xué)平臺設(shè)計使得信噪比更高，速度更快，可靠性和穩(wěn)定性更好，更適合高分辨率光譜波長的探測。CMOS探測器正逐步發(fā)展并取代CCD，可應(yīng)用于激光器和LED等光源波長的表征、等離子體氣體放電、LIBS激光感應(yīng)、原子發(fā)射元素光譜測量等。

　　

　　高分辨率光譜儀的光譜范圍為200-1100nm，高光學(xué)分辨率可達(dá)0.06nm，根據(jù)不同的應(yīng)用需求，可配置不同的光柵實現(xiàn)不同的光譜范圍應(yīng)用。同時可與光源、光纖探頭、積分球、標(biāo)準(zhǔn)板、熒光吸收支架、余弦探頭配合，實現(xiàn)吸光度、透反、熒光、LIBS、輻射測量等應(yīng)用。同時結(jié)構(gòu)緊湊，雜散光低，熱穩(wěn)定性好。高速測量短時間可達(dá)0.5ms。用戶還可以通過選擇不同的光柵配置獲得不同的光學(xué)分辨率和光譜響應(yīng)范圍，非常適合工業(yè)和科研應(yīng)用。
 

　　

　　其超高的性能可以大大提高吸光度、反射率、熒光和拉曼檢測的準(zhǔn)確性。對于一些要求更高的測試，可以容納15000個光譜的緩沖器可以保證高速采集中數(shù)據(jù)的完整性，其先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計和熱電制冷裝置可以大大提高長時間檢測的熱穩(wěn)定性。因此，無論是高速測量還是寬濃度范圍檢測，都能為實驗室或在線應(yīng)用提供性能。

　　

　　高分辨率光學(xué)平臺可以提供高達(dá)0.1nm的光學(xué)分辨率，100nm的焦距和0.11的數(shù)值孔徑組合可以使光譜儀在不增加體積的情況下達(dá)到分辨率和靈敏度的平衡。雙閃耀光柵在寬光譜范圍內(nèi)響應(yīng)更均勻，解決了寬光譜范圍內(nèi)的效率平衡和高階干涉問題，最寬光譜范圍覆蓋200~1100nm。高速控制技術(shù)可在1ms內(nèi)設(shè)定新的積分時間，為光譜儀控制節(jié)省時間。

　　

　　高分辨率光譜儀可配置經(jīng)過特殊紫外增感處理的深紫外CCD，將光譜探測范圍擴(kuò)展到深紫外波段。具有標(biāo)志位和底層調(diào)用技術(shù)，在保證高速測量的同時，可以進(jìn)一步提高測量精度。提供低成本光纖，建立個性化光譜測量設(shè)備。